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數顯勻膠臺

更新時間:2015-09-15

訪問量:438

廠商性質:生產廠家

生產地址:北京美華儀科技有限公司

簡要描述:
數顯勻膠臺本機是用于半導體、集成電路及激光息商標制過程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻(感光)膠的用設備。本機的作原理是利用速旋轉時產生的離心力,將滴于基片上多余的光刻(感光)膠液甩去
品牌TESTO/德國德圖

數顯勻膠臺/勻膠臺 型號:MHY-26376


數顯勻膠臺本機是用于半導體、集成電路及激光息商標制過程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻(感光)膠的用設備。本機的作原理是利用速旋轉時產生的離心力,將滴于基片上多余的光刻(感光)膠液甩去,在光刻(感光)膠表面張力和離心力的共同作用下,展成厚度均勻的膠膜。本機具有勻膠效率、使用方便等優點,勻膠速度和勻膠時間分別可調,電器電路具有較的穩定性,結構合理,旋轉平穩,轉速、時間采用數字顯示,直觀性強。本機可與光刻機配套使用。
 
主要參數:
1、作電壓: 380V/220V
2、整機率: 1200W
3、勻膠時間控制范圍: 0.01-99.99秒;0.01-99.99分
4、轉速:
 0-8000Rpm
5、裝片直徑(可根據用戶要求定制): ф35-75mm
6、勻膠位(可根據用戶要求定制): 1-4位
7、外形尺寸: 長*寬*  850*810*1600mm
 
8、凈重: 120kg
 
本機是用于半導體、集成電路及激光息商標制過程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻(感光)膠的用設備。本機的作原理是利用速旋轉時產生的離心力,將滴于基片上多余的光刻(感光)膠液甩去,在光刻(感光)膠表面張力和離心力的共同作用下,展成厚度均勻的膠膜。本機具有勻膠效率、使用方便等優點,勻膠速度和勻膠時間分別可調,電器電路具有較的穩定性,結構合理,旋轉平穩,轉速、時間采用數字顯示,直觀性強。本機可與光刻機配套使用。
 
主要參數:
1、作電壓: 380V/220V
2、整機率: 1200W
3、勻膠時間控制范圍: 0.01-99.99秒;0.01-99.99分
4、轉速:
 0-8000Rpm
5、裝片直徑(可根據用戶要求定制): ф35-75mm
6、勻膠位(可根據用戶要求定制): 1-4位
7、外形尺寸: 長*寬*  850*810*1600mm
 
8、凈重: 120kg
 

 

 

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